Didelio grynumo volframo taikinio paruošimo technologija ir pritaikymas

Dėl ugniai atsparaus volframo ir volframo lydinių aukštos temperatūros stabilumo, didelio elektronų migracijos pasipriešinimo ir didelio elektronų emisijos koeficiento didelio grynumo volframo ir volframo lydinių taikiniai daugiausia naudojami puslaidininkių vartų elektrodams, jungiamiesiems laidams, difuzijos barjeriniams sluoksniams ir kt. integrinių grandynų ir kelia aukštus reikalavimus medžiagų grynumui, priemaišų elementų kiekiui, tankiui, grūdelių dydžiui ir grūdelių struktūros vienodumui.Dabar pažvelkime į veiksnius, turinčius įtakos didelio grynumo volframo taikinio paruošimui.

　　1, sukepinimo temperatūros poveikis

Volframo tikslinio embriono formavimo procesas paprastai atliekamas šalto izostatinio presavimo būdu.Sukepinimo proceso metu volframo grūdeliai augs.Volframo grūdelių augimas užpildys tarpą tarp grūdelių ribų ir taip pagerins volframo taikinio tankį.Didėjant sukepinimo laikui, volframo taikinio tankio didėjimas palaipsniui lėtėja.Pagrindinė priežastis yra ta, kad po daugkartinio sukepinimo volframo taikinio kokybė beveik nepasikeitė.Kadangi dauguma tuštumų grūdelių ribose yra užpildytos volframo kristalais, po kiekvieno sukepinimo bendras volframo taikinio dydžio kitimo greitis buvo labai mažas, todėl liko ribota erdvė volframo taikinio tankiui padidinti.Sukepinimo procese išaugę volframo grūdeliai užpildomi tuštumose, todėl taikinio tankis yra didesnis ir dalelių dydis yra mažesnis.

　　2, laikymo laiko poveikis

Esant tokiai pačiai sukepinimo temperatūrai, pailgėjus sukepinimo laikymo laikui, pagerės volframo taikinio kompaktiškumas.Ilgėjant laikymo laikui, volframo grūdelių dydis padidės, o ilgėjant laikymo laikui, grūdelių dydžio augimo laikas palaipsniui sulėtės, o tai reiškia, kad ilginant laikymo laiką taip pat galima pagerinti volframo našumą. volframo taikinys.

　　3、 Ritimo poveikis tikslinėms savybėms

Siekiant pagerinti volframo tikslinės medžiagos tankį ir gauti volframo tikslinės medžiagos apdorojimo struktūrą, volframo tikslinės medžiagos valcavimas turi būti atliekamas žemesnėje nei rekristalizacijos temperatūra.Jei tikslinio ruošinio valcavimo temperatūra yra aukšta, tikslinio ruošinio pluošto struktūra bus šiurkšti, ir atvirkščiai.Kai šilto valcavimo greitis pasiekia daugiau nei 95 proc.Nors pluošto struktūros skirtumas, atsirandantis dėl skirtingų pradinių grūdelių ar skirtingų valcavimo temperatūrų, bus pašalintas, vidinė taikinio struktūra sudarys gana vienodą pluošto struktūrą, todėl kuo didesnis šilto valcavimo apdorojimo greitis, tuo geresnis taikinio našumas.