Kaip visi žinome, dažniausiai naudojami vakuuminio dengimo metodai yra vakuuminė transpiracija ir jonų purškimas.Kuo skiriasi transpiracinė danga ir purškiamoji danga?žmonių turi tokių klausimų.Pasidalinkime su jumis skirtumu tarp transpiracinės dangos ir purškiančios dangos
Vakuuminė transpiracinė plėvelė skirta kaitinti transpiruojamus duomenis iki fiksuotos temperatūros, naudojant pasipriešinimo kaitinimą arba elektronų pluoštą ir lazerinį apvalkalą aplinkoje, kurios vakuuminis laipsnis ne mažesnis kaip 10-2Pa, kad molekulių šiluminė vibracijos energija arba Duomenų atomų kiekis viršija paviršiaus surišimo energiją, todėl daugelis molekulių ar atomų transpiruoja arba padidėja, ir tiesiogiai nusėda ant pagrindo, kad susidarytų plėvelė.Jonų purškimo dangoje naudojamas didelis atsparumas teigiamų jonų judėjimui, atsirandančiam dėl dujų išlydžio veikiant elektriniam laukui, kad bombarduotų taikinį kaip katodą, kad taikinyje esantys atomai ar molekulės išbėgtų ir nusėda ant padengto ruošinio paviršiaus, kad susidarytų. reikiamą plėvelę.
Dažniausiai naudojamas vakuuminio transpiracinio dengimo metodas yra atsparumo šildymo metodas.Jo pranašumai yra paprasta šildymo šaltinio struktūra, maža kaina ir patogus valdymas.Jo trūkumai yra tai, kad jis netinka ugniai atspariems metalams ir aukštai temperatūrai atsparioms terpėms.Šildymas elektronų pluoštu ir šildymas lazeriu gali įveikti pasipriešinimo šildymo trūkumus.Kaitinant elektronų pluoštu, sufokusuotas elektronų pluoštas yra naudojamas tiesiogiai šildyti apvalkaluotus duomenis, o elektronų pluošto kinetinė energija tampa šilumos energija, kad būtų galima perduoti duomenis.Lazeriniam šildymui kaip šildymo šaltinis naudojamas didelės galios lazeris, tačiau dėl didelės galios lazerio kainos jį galima naudoti tik nedaugelyje tyrimų laboratorijų.
Purškimo įgūdžiai skiriasi nuo vakuuminio transpiracijos įgūdžių.Purškimas reiškia reiškinį, kai įkrautos dalelės bombarduoja atgal į kūno paviršių (taikinį), todėl iš paviršiaus išsiskiria kietieji atomai arba molekulės.Dauguma išskiriamų dalelių yra atominės, kurios dažnai vadinamos išpurškusiais atomais.Purškiamos dalelės, naudojamos taikiniams gliaudyti, gali būti elektronai, jonai arba neutralios dalelės.Kadangi jonai lengvai gauna reikiamą kinetinę energiją veikiant elektriniam laukui, jonai dažniausiai pasirenkami kaip apvalkalo dalelės.
Purškimo procesas pagrįstas švytėjimo išlydžiu, tai yra, purškiantys jonai atsiranda iš dujų išlydžio.Skirtingi purškimo įgūdžiai turi skirtingus švytėjimo išleidimo būdus.Nuolatinės srovės diodų purškimui naudojamas nuolatinės srovės švytėjimo išlydis;Triodinis purškimas yra švytėjimo išlydis, palaikomas karšto katodo;RF purškimas naudoja RF švytėjimo išlydį;Magnetroninis purškimas yra švytėjimo išlydis, valdomas žiedinio magnetinio lauko.
Palyginti su vakuumine transpiracine danga, purškiamoji danga turi daug privalumų.Jei bet kuri medžiaga gali būti purškiama, ypač elementai ir junginiai, kurių lydymosi temperatūra yra aukšta ir garų slėgis žemas;Sukibimas tarp išpurkštos plėvelės ir pagrindo yra geras;Didelis plėvelės tankis;Plėvelės storis gali būti kontroliuojamas, o pakartojamumas yra geras.Trūkumas yra tas, kad įranga yra sudėtinga ir reikalauja aukštos įtampos įrenginių.
Be to, transpiracijos metodo ir purškimo metodo derinys yra jonų dengimas.Šio metodo privalumai yra stiprus sukibimas tarp plėvelės ir pagrindo, didelis nusodinimo greitis ir didelis plėvelės tankis.
Paskelbimo laikas: 2022-09-09